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对于优良侧面效果的制造方式﹐外界均有不同的理论、 设计方式和设备结构的研究, 而这些理论却往往是人相径庭的。 但是, 有一条基本的原则已被-并经化学机理分析 证实﹐就是尽速让金属表面不断地接触新鲜的蚀刻液。 在氨性蚀刻中﹐假定所有参数不变 ﹐那么蚀刻的速率将主要由蚀刻液中的氨nh3来决定。随着-微型芯片的结构日益复杂,其深而窄的沟槽为芯片制造带来了全新的挑战,例如湿性化学成分无法穿透微小结构,或是无法在不损伤芯片的前提下清除不需要的物质。因此, 使用新鲜溶液与蚀刻表面 相互作用﹐其主要目的有两个﹕冲掉刚产生的铜离子及不断为进行反应供应所需要的氨 nh3。


这就要选择容易 再生和补偿, 而蚀刻速率又容易控制的蚀刻液, 并 选用能提供恒定的操作条件和能自动控 制各种溶液参数的工艺和设备, 通过控制溶铜量、 ph 值、 溶液的浓度、 温度及溶液流量 的均匀性喷淋系统或喷嘴, 以至喷嘴的摆动等来实现蚀刻速率的一致性。 3. 提高基板表面的蚀刻速率的均匀性 基板的上下两面以及板面上各部位的蚀刻的均匀性, 皆决定于板表面受到蚀刻剂流 量的均匀性所影响。 在蚀刻的过程中﹐上下板面的蚀刻速率往往并不一致。理论上﹐如果溶液形状相互交叉,该部分的喷射力就会降低而不能有效地将蚀刻表面上的旧溶液冲掉使新溶液与其接触。 一般来说﹐下板面的蚀刻速 率会高于上板面。


-含量的影响 通过蚀刻再生的化学反应可以看出﹕﹝cu(nh3)2﹞1+的再生需要有过量的 nh3 和 nh4cl 存在。 如果溶液中缺乏 nh4cl, 而使大量的﹝cu(nh3)2﹞1+得不到再生﹐蚀刻速率就会降低 ﹐以至失去蚀刻能力。 所以﹐-的含量对蚀刻速率影响很大。 随着蚀刻的进行﹐要不 断补加-。5、褪膜先把蚀刻好的不锈钢板放入清水中,用洁净的布将-化铁溶液洗去。 但是﹐溶液中 cl 含量过高会引起抗蚀层被浸蚀。 一般蚀刻液中 nh4cl 含 量应在 150g/l 左右。


一、二槽酸液蚀刻 glass 材料时设置的温度、速度、需根据酸液的浓度及材料导电层附着力的强弱而调节,以能完 全蚀刻、不短路为原则并配合碱段的参数; b.同时生产前需做首件检测原材料方阻,方阻需在要求范围之内才可正常生产;不锈钢标牌的腐蚀方法不锈钢标牌在我们的日常生活当中很常用,不锈钢标牌的制作方法也有很多,但是我近发现有很多的人在问不锈钢标牌的腐蚀方法,你知道不锈钢标牌的腐蚀方法吗。 c.两槽酸液流量要适中范围; d.如出现刻不断等其它的现象时请优先调整各阶段的速度以 1.5 为基准往上调或往下调; e.酸槽的速度必须小于不等于碱槽的速度。 2碱洗、脱膜(glass)




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